En la fabricació de molts semiconductors, s'afegeix pols de grafit per millorar el rendiment de les mercaderies, però no tota la pols de grafit pot complir els requisits. En aplicacions de semiconductors, la pols de grafit es considera normalment puresa, mida de partícula i resistència a la calor. A continuació de Furuite grafit xiaobian perquè digueu quina pols de grafit pot processar semiconductors:
Pols de grafit
1. Regulació de puresa
Els requisits de matèries primeres en pols de grafit per a la producció de la indústria de semiconductors són molt elevats, especialment en el contacte entre els dos dispositius de grafit, si hi ha massa impureses que contaminaran la matèria primera. Per tant, a més d'una gestió estricta de la puresa de les matèries primeres de grafit, però també a través d'alta temperatura per reduir el nivell de gris al mínim.
2, disposicions de distribució de la mida de partícules
Les matèries primeres de grafit de grau industrial de semiconductors a partícules fines, les partícules fines de grafit són molt fàcils d'aconseguir una precisió de producció i processament i resistència a la compressió a alta temperatura, consum reduït.
3, disposicions de resistència a la calor
Producció de la indústria de semiconductors de dispositius de grafit, la majoria de la calefacció i refrigeració contínua, per tal de millorar l'ús de dispositius, matèries primeres de grafit per tenir una excel·lent fiabilitat i un rendiment de resistència a l'impacte a alta temperatura a alta temperatura.
D'acord amb les disposicions anteriors de la pols de grafit, es pot utilitzar millor en el processament de semiconductors. Si també voleu comprar pols de grafit per a la producció industrial, benvingut a la fàbrica de grafit Furuite per a una comprensió detallada.
Hora de publicació: 30-mar-2022